| 发明名称 |
AG ALLOY FILM-FORMING SPUTTERING TARGET, AG ALLOY FILM, AG ALLOY REFLECTIVE FILM, AG ALLOY ELECTROCONDUCTIVE FILM, AG ALLOY SEMI-PERMEABLE FILM |
| 摘要 |
본 발명은 Ag 합금막 형성용 스퍼터링 타깃, Ag 합금막, Ag 합금 반사막, Ag 합금 도전막 및 Ag 합금 반투과막에 관한 것으로서, 당해 Ag 합금막 형성용 스퍼터링 타깃은 Sb 를 0.2 원자％ 이상 2.0 원자％ 이하, Mg 를 0.05 원자％ 이상 1.00 원자％ 이하, 잔부가 Ag 와 불가피 불순물로 이루어지는 조성을 갖는 것을 특징으로 한다. |
| 申请公布号 |
KR20150086566(A) |
申请公布日期 |
2015.07.28 |
| 申请号 |
KR20157019057 |
申请日期 |
2014.01.21 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP. |
发明人 |
TOSHIMORI YUTO;NONAKA SOHEI |
| 分类号 |
C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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