| 摘要 |
<p>본 발명은 프로세스 챔버의 순환식 정제장치에 관한 것으로, 기판을 적재하고 비활성 분위기에서 상기 기판을 처리하는 프로세스 챔버와, 상기 프로세스 챔버에 비활성 가스를 공급하는 비활성 가스 공급관과, 상기 프로세스 챔버로부터 가스를 외부로 배기하는 배기관과, 상기 비활성 가스 공급관에 마련되어 상기 프로세스 챔버로 공급되는 비활성 가스를 가열하여 수분 제거 효율을 높이는 가열부와, 상기 배기관을 통해 배기되는 가스에서 수분농도를 검출하여 상기 프로세스 챔버의 내부 분위기를 확인하는 센서부와, 상기 배기관에 마련되어 가스를 냉각하여 순환시키는 블로워부와, 상기 블로워부를 통해 순환되는 가스에서 수분과 이물을 제거하여 상기 비활성 가스 공급관으로 공급하는 정제컬럼을 포함한다. 본 발명은 프로세스 챔버의 가스 및 그 가스와 함께 배출되는 비활성 가스를 정제시켜 재순환시킴으로써, 비활성 가스의 소모량을 최소화할 수 있는 효과가 있다.</p> |
