| 摘要 |
<p>Durch die vorliegende Erfindung wird ein System zum mechanischen Halten eines Substrats während einer Verarbeitung bereitgestellt, mit: einer verschließbaren Verarbeitungskammer und einer in der Verarbeitungskammer angeordneten oberen Blockanordnung, die dafür konfiguriert ist, einen Wafer durch drei mechanische Halteanordnungen zu halten. Die drei mechanischen Halteanordnungen stehen über einer Abdeckung der Waferverarbeitungskammer hervor und sind dafür konfiguriert, den Wafer an einem Rand des Wafers zu halten und von außerhalb der Verarbeitungskammer eingestellt zu werden. Zwei der mechanischen Halteanordnungen sind bezüglich des Waferrandes in der Position verriegelbar, und eine der mechanischen Halteanordnungen ist dafür konfiguriert, über einen Vorspannmechanismus eine Haltevorspannung auf den Waferrand aufrechtzuerhalten.</p> |
