| 摘要 |
流体入口（１４）、濾過済み流体出口（１６）、流出液出口（１８）、プロセス流体出口（２０）、および中心軸（Ｘ）を中心とする内周壁（２２）を含むチャンバー（２４）、を含むタンク（１２）を含む、ハイドロクロン（１０）。該ハイドロクロンは：チャンバー（２４）内に位置し、中心軸（Ｘ）の周囲に対称的に位置する外膜表面（４４）を有し、かつ濾過済み流体出口（１６）と流体連通する濾過チャンバー（４６）を取り囲む、フィルタアセンブリ（２６）；ならびにｉｉ）膜表面（４４）と同心円状に位置し、かつ膜表面（４４）と回転可能に係合する、洗浄アセンブリ（５０）；をさらに含む。流体通路（２８）は、流体入口（１４）から延び、チャンバー（２４）の内周壁（２２）と膜表面（４４）との間の渦領域（２５）を画定し、かつ流入液を受容するよう適合されている。入口流れシールド（５８）は、フィルタアセンブリ（２６）の周囲に同心円状に位置し、流体入口（１４）からチャンバー（２４）内に流入する流体の少なくとも一部を、膜表面（４４）に衝撃を与えることから阻止するよう適合されている。【選択図】 図２Ｃ |
