二极管自动清洗装置及其清洗方法

摘要

本发明属于制造业技术领域，具体涉及二极管自动清洗装置及其清洗方法。二极管自动清洗装置，包括工作台、PLC控制器、直线轨、升降气缸、加热器、超声振盒、排污阀、平移气缸、升降架、平移架和清洗筐。二极管清洗方法，采用上述自动清洗装置，将二极管依次通过第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽和第八清洗槽进行清洗。本发明公开了二极管自动清洗装置及其清洗方法具有节约人工，提高清洗效率等优点。

主权项

二极管自动清洗装置，其特征在于，包括工作台、PLC控制器、直线轨、升降气缸、加热器、超声振盒、排污阀、平移气缸、升降架、平移架和清洗筐，所述PLC控制器设置在工作台一侧，第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽和第八清洗槽依次设置在工作台上的，第一清洗槽内部设有加热器和多个超声振盒，第二清洗槽的内部设有多个超声振盒，第三清洗槽的内部设有多个超声振盒，第五清洗槽的内部设有多个超声振盒，第六清洗槽的内部设有多个超声振盒，第一清洗槽的底部、第二清洗槽的底部、第三清洗槽的底部、第四清洗槽的底部、第五清洗槽的底部、第六清洗槽的底部、第七清洗槽的底部和第八清洗槽的底部均设有排污阀；直线轨与升降架可移动式连接，升降架内设有清洗筐，PLC控制器与升降气缸耦合控制清洗筐垂直移动；PLC控制器与平移架、平移气缸耦合控制清洗筐的水平移动。