发明名称 降低用于先进鳍式场效电晶体形成之介电层的K値之方法;METHOD TO REDUCE K VALUE OF DIELECTRIC LAYER FOR ADVANCED FINFET FORMATION
摘要 在此描述的实施例大体上关于形成闸极结构的方法。可于闸极介电材料上执行各种制程以减少介电材料之K值。具有减少的K值的闸极介电质可提供减少的寄生电容与整体减少的电容。可不受限于热力而修饰闸极介电质。
申请公布号 TW201528342 申请公布日期 2015.07.16
申请号 TW103141037 申请日期 2014.11.26
申请人 应用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 叶艾利Y YIEH, ELLIE Y.;葛迪鲁多维 GODET, LUDOVIC;奈马尼史林尼法斯D NEMANI, SRINIVAS D.
分类号 H01L21/263(2006.01);H01L21/28(2006.01);H01L21/8234(2006.01);H01L29/51(2006.01);H01L29/66(2006.01) 主分类号 H01L21/263(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财李世章
主权项
地址 美国 US