发明名称 基板处理装置,半导体装置之制造方法及记录媒体
摘要 提供一种可减小覆盖区之技术。一种基板处理装置系具有:收纳室,其具备有收纳架,该收纳架系收纳将基板加以收容之收容容器;及收容容器搬送机构,其设置在上述收纳室之天花板部,且用于搬送上述收容容器。
申请公布号 TW201527580 申请公布日期 2015.07.16
申请号 TW103132952 申请日期 2014.09.24
申请人 日立国际电气股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 发明人 上村大义 KAMIMURA, DAIGI;小竹繁 ODAKE, SHIGERU;谷山智志 TANIYAMA, TOMOSHI;野上孝志 NOGAMI, TAKASHI;守田修 MORITA, OSAMU;小前泰彰 KOMAE, YASUAKI
分类号 C23C16/44(2006.01);H01L21/673(2006.01);H01L21/677(2006.01) 主分类号 C23C16/44(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣宿希成
主权项
地址 日本 JP