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发明名称
基板处理装置,半导体装置之制造方法及记录媒体
摘要
提供一种可减小覆盖区之技术。一种基板处理装置系具有:收纳室,其具备有收纳架,该收纳架系收纳将基板加以收容之收容容器;及收容容器搬送机构,其设置在上述收纳室之天花板部,且用于搬送上述收容容器。
申请公布号
TW201527580
申请公布日期
2015.07.16
申请号
TW103132952
申请日期
2014.09.24
申请人
日立国际电气股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.
发明人
上村大义 KAMIMURA, DAIGI;小竹繁 ODAKE, SHIGERU;谷山智志 TANIYAMA, TOMOSHI;野上孝志 NOGAMI, TAKASHI;守田修 MORITA, OSAMU;小前泰彰 KOMAE, YASUAKI
分类号
C23C16/44(2006.01);H01L21/673(2006.01);H01L21/677(2006.01)
主分类号
C23C16/44(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣宿希成
主权项
地址
日本 JP
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