含有含多酸之金属的光阻下层膜形成组成物;METAL-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYOXOMETALATE

摘要

提供一种形成光阻下层膜的光阻下层膜形成组成物。一种组成物，其为含有(A)成份：异多酸或杂多酸或该些之盐，或该些之组合，与(B)成份：聚矽氧烷、多氧化铪或氧化锆或该些之组合，以(A)成份与(B)成份之合计量为基准，(A)成份为含有0.1至85质量%的比例，的光阻下层膜形成组成物，该聚矽氧烷为下述式(1)：[化1]R 1 aR 2 bSi(R 3 )4-(a+b)式(1)所示水解性矽烷的水解缩合物，式(1)中(a+b)为0之水解性矽烷，于全水解性矽烷中为含有60至85莫耳%，该多氧化铪为式(2)：[化2]Hf(R 4 )4式(2)所示水解性铪的水解缩合物，该氧化锆为式(3)、式(4)：[化3]Zr(R 5 )4式(3) ZrO(R 6 )2式(4)所示水解性锆，或该些之组合的水解缩合物。