| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Durchführung eines CVD-Prozesses mit einem in einem Reaktorgehäuse angeordneten, eine einer Prozesskammer zugewandten Gasaustrittsplatte (8) aufweisenden Gaseinlassorgan, welche Gasaustrittsplatte (8) einen porösen Werkstoff und eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen (9) aufweist, welche von einem im Gaseinlassorgan angeordneten Gasverteilvolumen mit Prozessgasen gespeist werden. Um ein Gaseinlassorgan, insbesondere für einen CVD-Reaktor mit einer großen Beschichtungsfläche, herstellungstechnisch zu verbessern, wird vorgeschlagen, dass der poröse Werkstoff den Kern (12) der Gasaustrittsplatte (8) bildet, deren mit dem Prozessgas in Berührung tretenden Oberflächenabschnitte versiegelt sind. |
