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发明名称
GaN模板基板及装置基板
摘要
本发明为实现不会发生条状的形态异常之装置基板。GaN模板基板为包括:基底基板、及磊晶形成在基底基板之上的第1GaN层,以满足内藏在第1GaN层的平面方向之压缩应力为260MPa以上、或是在拉曼光谱中波长568nm -1 附近之GaN的E2声子之波峰半宽为1.8cm -1 以下两者的方式,使装置基板包括:磊晶形成在第1GaN层之上的第2GaN层、及磊晶形成在第2GaN层之上之由13族氮化物构成的装置层。
申请公布号
TW201528502
申请公布日期
2015.07.16
申请号
TW103132022
申请日期
2014.09.17
申请人
日本碍子股份有限公司 NGK INSULATORS, LTD.
发明人
市村干也 ICHIMURA, MIKIYA;仓冈义孝 KURAOKA, YOSHITAKA;滑川政彦 NAMERIKAWA, MASAHIKO
分类号
H01L29/12(2006.01);H01L29/20(2006.01)
主分类号
H01L29/12(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本 JP
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