发明名称 清洁模块、清洁装置以及光掩模的清洁方法
摘要 本发明提供了清洁模块、清洁装置以及光掩模的清洁方法。在清洁光掩模的方法中,从擦拭带供带盘开始引导擦拭带、经过清洁头、然后到达擦拭带收带盘上。经过清洁头的一段擦拭带接触光掩模的表面上的粘合剂残留物。在光掩模和该段擦拭带之间进行相对运动以从光掩模的表面去除粘合剂残留物。
申请公布号 CN104777711A 申请公布日期 2015.07.15
申请号 CN201410392595.X 申请日期 2014.08.11
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 潘怡勋;谢昆龙
分类号 G03F1/82(2012.01)I 主分类号 G03F1/82(2012.01)I
代理机构 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人 章社杲;孙征
主权项 一种清洁模块,包括:支撑结构,配置成可旋转地支撑擦拭带供带盘和擦拭带收带盘;清洁头,配置成在清洁操作期间由擦拭带清洁衬底,所述擦拭带沿着擦拭带路径被连续引导,所述擦拭带路径从所述擦拭带供带盘开始、环绕所述清洁头的一部分、然后到达所述擦拭带收带盘;以及抽吸装置,配置成远离所述部分清洁头的所述一部分吸走在所述清洁操作期间所生成的污染物。
地址 中国台湾新竹