发明名称 直流级联弧等离子体炬清洗托卡马克第一镜的装置
摘要 本发明提供一种直流级联弧等离子体炬清洗托卡马克第一镜的装置,包括级联弧等离子体炬发生系统、冷却水供给系统、支撑系统和反射率检测系统,所述级联弧等离子体炬发生系统包括真空腔室、级联源、直流电源、真空单元、供气单元和冷却单元,所述级联源设置在真空腔室的一端,所述直流电源与级联源电连,所述供气单元与级联源通过管路连接,所述真空单元与真空腔室连接,所述冷却单元设置在级联源内。本发明直流级联弧等离子体炬清洗托卡马克第一镜的装置结构简单、合理、紧凑,该装置基于直流级联弧等离子体炬技术,能够在不引入杂质的前提下,实现对第一镜样品表面杂质沉积层的大面积均匀清洗,快速去除杂质沉积层。
申请公布号 CN104772305A 申请公布日期 2015.07.15
申请号 CN201510185627.3 申请日期 2015.04.20
申请人 大连理工大学 发明人 丁洪斌;王勇;李聪;王志伟;吴兴伟;陈俊凌
分类号 B08B7/00(2006.01)I 主分类号 B08B7/00(2006.01)I
代理机构 大连星海专利事务所 21208 代理人 裴毓英
主权项 一种直流级联弧等离子体炬清洗托卡马克第一镜的装置,其特征在于,包括级联弧等离子体炬发生系统、冷却水供给系统、支撑系统和反射率检测系统;所述级联弧等离子体炬发生系统包括真空腔室、级联源、直流电源、真空单元、供气单元和冷却单元,所述级联源设置在真空腔室的一端,所述直流电源与级联源电连,所述供气单元与级联源通过管路连接,所述真空单元与真空腔室连接,所述冷却单元设置在级联源内;所述支撑系统为设置在真空腔室内用于固定第一镜样品的支架,所述支架为水冷支架;所述支撑系统设置的位置能使级联源发射的直流级联弧等离子体炬照射在第一镜样品上;所述冷却水供给系统分别通过管路与水冷支架和冷却单元连接;所述反射率检测系统包括标准灯、光谱仪和计算机,所述真空腔室侧壁上设置有第一石英窗口和第二石英窗口,所述标准灯通过第一光纤发射的光能透过第一石英窗口照射到第一镜样品表面,光在第一镜样品表面反射后能透过第二石英窗口进入第二光纤,所述第二光纤与光谱仪连接,所述光谱仪与计算机电连。
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