发明名称 シリコンの生産のための反応器および方法
摘要 Reactor for production of silicon, comprising a reactor volume, distinctive in that the reactor comprises or is operatively arranged to at least one means for setting a silicon-containing reaction gas for chemical vapor deposition (CVD) into rotation inside the reactor volume. Method for production of silicon.
申请公布号 JP5749730(B2) 申请公布日期 2015.07.15
申请号 JP20120541045 申请日期 2010.11.25
申请人 ダイナテック エンジニアリング エーエス 发明人 フィルトヴェット ヨーセフ;フィルトヴェット ヴェルナー オー.;ホルト アルヴェ
分类号 C01B33/035;C01B33/027 主分类号 C01B33/035
代理机构 代理人
主权项
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