正性工作光敏材料

摘要

本文中公开的是一种包含杂环硫醇化合物或其互变异构形式的光敏组合物，以及其在基底上的使用方法，该基底可以包括亲硫元素基底。

主权项

正性工作光敏组合物，包含：a.至少一种光生酸剂；b.至少一种聚合物，包含一种或多种(甲基)丙烯酸酯重复单元并进一步包含一种或多种具有至少一个酸可裂解基团的重复单元；c.至少一种包含选自以下通式的环结构的杂环硫醇化合物或其互变异构体：其中该环结构是具有4‑8个原子的单环结构，或具有5‑20个原子的多环结构，并且其中该单环结构或多环结构包含芳族、非芳族或杂芳族环，并且其中X通过单键结合到环中并选自CR₁R₂、O、S、Se、Te或NR₃，或X通过双键结合到环中并选自CR₁或N，并且Y选自CR₁或N，且其中R₁、R₂和R₃独立地选自H、具有1‑8个碳原子的取代烷基、具有1‑8个碳原子的未取代烷基、具有1‑8个碳原子的取代烯基、具有1‑8个碳原子的未取代烯基、具有1‑8个碳原子的取代炔基、具有1‑8个碳原子的未取代炔基、具有1‑20个碳原子的取代芳族基团、具有1‑20个碳原子的取代杂芳族基团、具有1‑20个碳原子的未取代芳族基团和具有1‑20个碳原子的未取代杂芳族基团。