发明名称 |
用于光刻设备投影物镜的像质补偿机构 |
摘要 |
本发明公开一种用于光刻设备的折反射物镜像质补偿机构,其特征在于,其中包括:像质补偿机构,用于补偿投影像质。较之现有技术方案,本发明能够实现:1、能同时检测补偿反射镜反射表面的面型与温度;2、在对补偿镜面型进行控制的同时,可以检测当前反射表面面型,进行闭环控制提高调整精度;3、本发明提供的方案可以直接检测反射表面的面型再在背后补偿,从而不需要如上述专利所提出的需要复杂的蜂巢状结构。 |
申请公布号 |
CN104777717A |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201410011640.2 |
申请日期 |
2014.01.10 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
曹昌智;梁任成 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种用于光刻设备的投影物镜,其特征在于,其中包括:像质补偿机构,用于补偿投影像质,所述像质补偿机构包括: 宽带光源,用于提供一宽光谱探测光束,位于光纤的一端; 若干所述光纤,所述光纤分布于反射镜凹表面,所述光纤上刻蚀有布拉格光栅; 光谱仪, 位于所述光纤的另一端,用于探测经所述布拉格光栅滤波后的宽光谱探测光束;运算执行机构,用于根据所述宽光谱探测光束获得所述反射镜凹表面的面型与温度分布,对所述反射镜背面进行外力校正。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |