发明名称 吸附装置
摘要
申请公布号 TWI492271 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW098106214 申请日期 2009.02.26
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 中村彰彦;桂川纯一
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种吸附装置,其特征为,具备有:真空吸附被吸附物的真空吸附手段;及与上述真空吸附手段成对,可夹持上述被吸附物的吸附辅助手段,吸附辅助手段,系具备:缸筒、能够游动地收容缸筒的缸筒支撑架、以及和缸筒连接且与上述被吸附物呈相向的面。
地址 日本