发明名称 用于形成晶圆级封装的系统与方法
摘要
申请公布号 TWI492318 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW098108766 申请日期 2009.03.18
申请人 通用电机股份有限公司 发明人 卡普斯塔 克里斯多夫;康宁罕 唐纳;沙亚 理查;杜罗契尔 凯文;伊恩诺堤 约瑟夫;霍金斯 威廉
分类号 H01L21/60;H01L23/52;B81B7/00 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种晶圆级封装(12),包含:一积体电路(IC)基板(10),具有复数个形成于其上表面的晶粒垫(22);复数个聚合物叠层(16),其位于该IC基板(10)上,该复数个聚合物叠层(16)的各聚合物叠层具有复数个形成于其中的通孔(20),该复数个通孔(20)之各通孔系对应于各个晶粒垫(22);复数个互连(26),系形成于该复数个聚合物叠层(16)的各聚合物叠层上,该复数个互连(26)之各互连系覆盖各个聚合物叠层(16)的一部分上表面,并向下延伸通过通孔(20)与位于下方的相邻聚合物叠层(16)上的互连(26)接触;及一输入/输出(I/O)系统互连(34),系位于晶圆级封装(12)的上表面并接合于该复数个互连(26);其中该复数个聚合物叠层(16)的各聚合物叠层包含个别预成形叠层板;其中该复数个聚合物叠层(16)分别具有晶粒区域,而该晶粒区域中之至少一部分的聚合物材料被移除以形成用以降低IC基板(10)的残留应力之沟槽(30),及该晶圆级封装(12)进一步包含配置在该基底聚合物叠层(16)上之至少一层的附加聚合物叠层(32)。
地址 美国