| 摘要 |
<p>본 발명은 포토리소그래피에 의해, 수직 측벽 형상으로 미세한 해상도, 저응력, 및 내습열성을 갖는 화상을 형성 가능한 감광성 에폭시 수지 조성물, 및/또는 그 레지스트 적층체, 및 상기 수지 조성물 및 상기 레지스트 적층체의 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 에폭시 수지 (A), 특정 구조의 폴리페놀 화합물 (B), 양이온성 광중합 개시제 (C), 및 에폭시기-함유 실란 화합물 (D) 를 포함하는 감광성 수지 조성물이다. 상기 에폭시 수지 (A) 는 하기 식 (1) 로 나타내는 페놀 유도체와 에피할로히드린과의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (a); 및 하기 식 (2) 로 나타내는 에폭시 수지 (b) 를 포함한다.</p> |
