一种新型真空镀膜室

摘要

本实用新型涉及一种真空镀膜室，包括机体、镍靶、放料辊、托辊Ⅰ、压辊Ⅰ、换向辊、压辊Ⅱ、托辊Ⅱ、收料辊、离子源、真空泵、高压发生器和氩离子喷射电极，所述放料辊、托辊Ⅰ、压辊Ⅰ、换向辊、压辊Ⅱ、托辊Ⅱ、收料辊依次设在所述机体的内部，所述换向辊的上方设有镍靶，所述镍靶的一侧设有离子源，所述托辊Ⅰ和压辊Ⅰ设在离子源和镍靶之间。本实用新型的有益效果为：由于在真空机中安装离子源，当原料布进入真空室后，先经过离子源释放的离子电弧清洗处理，进行过清洗再溅射的产品，在下道工序电镀生产时，电镀的光质发亮，速度提升，产品的镀层光滑。

主权项

一种新型真空镀膜室，其特征在于：包括机体、镍靶、放料辊、托辊Ⅰ、压辊Ⅰ、换向辊、压辊Ⅱ、托辊Ⅱ、收料辊、离子源、真空泵、高压发生器和氩离子喷射电极，所述放料辊、托辊Ⅰ、压辊Ⅰ、换向辊、压辊Ⅱ、托辊Ⅱ、收料辊依次设在所述机体的内部，所述换向辊的上方设有镍靶，所述镍靶的一侧设有离子源，所述托辊Ⅰ和压辊Ⅰ设在离子源和镍靶之间；所述镍靶的另一侧设有氩离子喷射电极，所述托辊Ⅱ和压辊Ⅱ设在氢离子喷射电极和镍靶之间；所述机体的上方设有高压发生器，所述高压发生器的负极分别连接离子源和氩离子喷射电极，所述高压发生器的正极连接镍靶；所述机体外部设有真空泵。