| 发明名称 | 制备阻隔组件的方法 | ||
| 摘要 | 本公开一般涉及形成阻隔组件的方法。一些实施例包括施加以及移除保护层，之后是施加顶片。一些实施例包括施加以及移除包含剥离剂和单体的保护层。 | ||
| 申请公布号 | CN104768753A | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201380043533.1 | 申请日期 | 2013.08.15 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | A·K·纳赫蒂加尔;A·T·拉夫;C·S·莱昂斯;G·D·乔利;J·C·斯帕格诺拉;M·D·韦格尔;M·D·德尔莫尔;S·基丹;T·P·科伦 |
| 分类号 | B32B27/06(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 主分类号 | B32B27/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈长会 |
| 主权项 | 一种形成阻隔组件的方法，所述方法包括：提供衬底；邻近所述衬底施加聚合物材料以形成聚合物层；邻近所述聚合物层施加含氧化物的材料以形成氧化物层；邻近所述氧化物层施加保护材料以形成保护层；移除所述保护层；以及施加顶片。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||