光辅助多孔硅电化学腐蚀槽

摘要

本发明提供了一种光辅助多孔硅电化学腐蚀槽，包括：槽体；位于所述槽体内的用以固定待腐蚀硅片的固定架；位于所述槽体内的电极，所述电极包括阴极电极及阳极电极，所述阴极电极及阳极电极分别位于所述固定架两侧；及位于所述槽体内的光辅助结构，所述光辅助结构位于所述固定架及阴极电极之间，用以向所述待腐蚀硅片提供光照，所述光辅助结构的光源密封于透明聚碳酸酯PC塑料内，并具有槽栅结构以利于腐蚀液流动。当进行双槽电化学腐蚀工艺时，通过位于槽体内且位于阴极电极及一待腐蚀硅片之间的光辅助结构，近距离地、直接地照射待腐蚀硅片，从而有效地在待腐蚀硅片中形成一定浓度的空穴，进而保证双槽电化学腐蚀工艺的质量及效率。

主权项

一种光辅助多孔硅电化学腐蚀槽，包括：槽体；位于所述槽体内的用以固定待腐蚀硅片的固定架；位于所述槽体内的电极，所述电极包括阴极电极及阳极电极，所述阴极电极及阳极电极分别位于所述固定架两侧；其特征在于，还包括：位于所述槽体内的光辅助结构，所述光辅助结构位于所述固定架及阴极电极之间，用以向所述待腐蚀硅片提供光照；所述电极为石墨电极；所述光辅助结构包括光源和透明聚碳酸酯PC塑料，所述光源密封于所述透明聚碳酸酯PC塑料内；所述透明聚碳酸酯PC塑料为槽栅结构，使得腐蚀液从透明聚碳酸酯PC塑料的一侧流向另一侧。