发明名称 单体、包含所述单体的硬掩膜组成物、以及使用所述硬掩膜组成物形成图案的方法
摘要 本发明是关于一种由化学式1表示的硬掩膜组成物用单体、一种含括所述单体的硬掩膜组成物,及一种使用所述硬掩膜组成物形成图案的方法。
申请公布号 CN104768912A 申请公布日期 2015.07.08
申请号 CN201380056460.X 申请日期 2013.03.19
申请人 第一毛织株式会社 发明人 朴惟廷;金惠廷;朴曜徹;尹龙云;李圣宰;李哲虎;赵娟振
分类号 C07C49/792(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I 主分类号 C07C49/792(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 杨贝贝;臧建明
主权项 一种硬掩膜组成物用的单体,由下列化学式1表示:[化学式1]<img file="FDA0000707490430000011.GIF" wi="953" he="496" />其中于化学式1中,A<sup>1</sup>至A<sup>3</sup>各自独立地为经取代或未经取代的脂肪族环状基团或芳族环状基团,X<sup>1</sup>和X<sup>2</sup>各自独立地为C=O、NR<sup>a</sup>、氧(O)、硫(S)、CR<sup>b</sup>R<sup>c</sup>或其组合,其中R<sup>a</sup>至R<sup>c</sup>各自独立地为氢、经取代或未经取代的C1至C10烷基、羟基、卤素原子、含卤素基团或其组合,L<sup>1</sup>和L<sup>2</sup>各自独立地为单键、经取代或未经取代的C1至C20亚烷基、经取代或未经取代的C3至C20环亚烷基、经取代或未经取代的C6至C20亚芳基、经取代或未经取代的C2至C20杂亚芳基或其组合,Y<sup>1</sup>和Y<sup>2</sup>各自独立地为经取代或未经取代的C2至C20烯基,n1和n2为0≤n1≤10及0≤n2≤10的整数,以及n1和n2不同时为0。
地址 韩国庆尙北道龟尾市龟尾大路58番地730-710