发明名称 |
一种等离子体预清洗装置 |
摘要 |
本发明提供一种等离子体预清洗装置,包括线圈、法拉第屏蔽件、介质桶、设置在所述介质桶顶端的顶盖以及与所述介质桶底端相连的腔体,所述法拉第屏蔽件套在所述介质桶的外侧,所述线圈缠绕在所述法拉第屏蔽件的外侧,所述法拉第屏蔽件包括沿所述介质桶周缘方向排列的至少两个相互不接触的法拉第屏蔽单元。该等离子体预清洗装置不仅可以减少线圈与等离子体之间容性耦合的发生,而且可以减少、甚至避免法拉第屏蔽件上产生涡流,从而可以提高作用在线圈上的射频功率的能量耦合效率。 |
申请公布号 |
CN103014745B |
申请公布日期 |
2015.07.08 |
申请号 |
CN201110299536.4 |
申请日期 |
2011.09.28 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
吕铀 |
分类号 |
C23C14/22(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
张天舒;陈源 |
主权项 |
一种等离子体预清洗装置,包括线圈、法拉第屏蔽件、介质桶、设置在所述介质桶顶端的顶盖以及与所述介质桶底端相连的腔体,所述法拉第屏蔽件套在所述介质桶的外侧,所述线圈缠绕在所述法拉第屏蔽件的外侧,其特征在于,所述法拉第屏蔽件包括沿所述介质桶周缘方向排列的至少两个相互不接触的法拉第屏蔽单元;所述法拉第屏蔽件与直流电源连接。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |