发明名称 Method of forming fine pattern using block copolymer
摘要 <p>블록 공중합체를 이용한 미세 패턴 형성 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 미세 패턴 형성 방법에서는 기판상에 유기 가이드층을 형성한다. 유기 가이드층을 노출시키는 복수의 개구가 형성된 포토레지스트 패턴을 형성한다. 유기 가이드층의 노출 부분과 포토레지스트 패턴 위에 블록 공중합체를 포함하는 물질층을 형성한다. 물질층의 상분리를 통해 물질층의 성분들을 재배열시켜, 유기 가이드층의 노출 부분과 포토레지스트 패턴 위에 서로 다른 성분의 반복 단위를 가지는 복수의 제1 블록 및 복수의 제2 블록이 각각 교대로 반복 배치되어 있는 미세 패턴층을 형성한다.</p>
申请公布号 KR101535227(B1) 申请公布日期 2015.07.08
申请号 KR20080138549 申请日期 2008.12.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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