| 摘要 |
<p>개시된 박막 증착 장치는 일면에 턴 테이블 회전 방향을 따라 기판 수용부를 가지는 턴 테이블과, 제1 반응 가스를 공급하는 제1 반응 가스 공급부와, 제2 반응 가스를 공급하는 제2 반응 가스 공급부와, 제1 반응 가스가 공급되는 제1 프로세스 영역과 제2 반응 가스가 공급되는 제2 프로세스 영역 사이에 위치된 분리 영역과, 제2 분리 가스를 상기 일면을 따라 배출하는 배출 구멍을 가지는 중앙 영역과, 챔버를 배기하는 배기 개구를 포함하며, 상기 분리 영역은 제1 분리 가스를 분리 영역 내에 공급하는 분리 가스 공급부를 포함하고, 천정면은 좁은 공간을 형성하도록 상기 일면에 대향한다.</p> |
