发明名称 玻璃保护膜、玻璃制品及玻璃防刮伤方法
摘要 本发明提供一种玻璃保护膜,包括依次层叠的五氧化二铌层、二氧化硅层及氮化碳层。在使用时,五氧化二铌层、二氧化硅层及氮化碳层依次层叠在玻璃上。五氧化二铌层及二氧化硅层用于增加玻璃保护膜的透光性,氮化碳层具有较高的硬度和摩擦系数,使得氮化碳层可以经受刀片在1KG的压力下的刮划而不在保护层上留下任何刮痕,因而该玻璃保护膜的防刮伤效果较好,能够有效地保护数码产品的玻璃屏幕或汽车玻璃。进一步,本发明还提供一种玻璃制品及一种玻璃防刮伤方法。
申请公布号 CN102717548B 申请公布日期 2015.07.01
申请号 CN201210171319.1 申请日期 2012.05.29
申请人 江西沃格光电股份有限公司 发明人 郑芳平;张迅
分类号 B32B9/04(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I 主分类号 B32B9/04(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 吴平
主权项 一种玻璃保护膜,其特征在于,包括依次层叠的五氧化二铌层、二氧化硅层及氮化碳层;所述五氧化二铌层的厚度为14~16nm,所述二氧化硅层的厚度为117~123nm,所述氮化碳层的厚度为4~8nm;所述玻璃保护膜采用玻璃防刮伤方法制备得到,包括如下步骤:采用磁控溅射技术在玻璃上制备所述五氧化二铌层和层叠于所述五氧化二铌层上的所述二氧化硅层;在所述二氧化硅层上采用磁控溅射技术制备所述氮化碳层,所述磁控溅射技术是采用石墨靶材溅射镀膜,并通入氮气作为反应气体,其中所述氮气的流量与溅射功率的比值为4~8SCCM/KW;所述五氧化二铌层的制备是采用铌靶材,在氧气气氛下溅射而成,所述氧气的流量与溅射功率的比值为4~10SCCM/KW;所述二氧化硅层的制备是采用硅靶材,在氧气气氛下溅射而成,所述氧气的流量与溅射功率的比值为8~15SCCM/KW;所述在玻璃上制备五氧化二铌层之前还包括玻璃的清洗及烘干的步骤。
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