发明名称 |
铜研磨用研磨剂和使用了其的研磨方法 |
摘要 |
铜研磨用研磨剂,其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水,(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上,(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上,(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上,满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。 |
申请公布号 |
CN102318042B |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
CN201080007580.7 |
申请日期 |
2010.02.12 |
申请人 |
日立化成株式会社 |
发明人 |
小野裕;筱田隆;冈田悠平 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
蒋亭 |
主权项 |
一种铜研磨用研磨剂,其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂、(F)水和(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种,所述(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上,所述(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上,所述(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上,所述(A)成分含有pKa为0以下的强酸及pKa大于0的弱酸,所述(G)成分为具有2个羧基且pKa为2.6以下的有机酸,使从铜研磨用研磨剂中将所述(G)成分除去后的组合物的pH增加到4所需的氢氧化钾的量,以每1千克所述组合物计,为0.10摩尔以上。 |
地址 |
日本东京都 |