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发明名称
鳍式场效电晶体半导体元件及形成其的方法;FINFET SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME
摘要
提供finFET半导体元件以及形成所述finFET半导体元件的方法。所述finFET半导体元件可包含:绝缘体层;底半导体层,位于所述绝缘体层上;通道鳍,位于所述底半导体层上;源极区,位于所述底半导体层上且邻近于所述通道鳍的第一侧;以及汲极区,位于所述底半导体层上且邻近于与所述第一侧相对的所述通道鳍的第二侧。
申请公布号
TW201526119
申请公布日期
2015.07.01
申请号
TW103140903
申请日期
2014.11.26
申请人
三星电子股份有限公司 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
罗德尔 麦克S RODDER, MARK S.;哦拉都比 玻那J OBRADOVIC, BORNA J.;保文 罗伯特C BOWEN, ROBERT C.
分类号
H01L21/336(2006.01);H01L29/06(2006.01);H01L29/78(2006.01)
主分类号
H01L21/336(2006.01)
代理机构
代理人
叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址
南韩 KR
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