发明名称 |
表面微细构造测量方法,表面微细构造测量资料解析方法及表面微细构造测量系统 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI490450 |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
申请号 |
TW099111567 |
申请日期 |
2010.04.14 |
申请人 |
理学股份有限公司 |
发明人 |
表和彦;伊藤义泰 |
分类号 |
G01B15/04;G01N23/201 |
主分类号 |
G01B15/04 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
一种表面微细构造测量方法,其系对试料表面上之微细构造进行测量者,其特征在于包括:对上述试料表面以微小的入射角照射X射线,测定散射强度之步骤;假设藉由表面上之微细构造,而于与上述表面垂直之方向形成有1个或复数个层,且于上述层内与上述表面平行之方向周期性地排列有单位构造体之试料模型,考虑与上述表面垂直之方向之1个或复数个层之各层之折射率而计算藉由上述微细构造而散射之X射线之散射强度,并将藉由上述试料模型算出之X射线之散射强度,与上述测定之散射强度进行配适(fitting)之步骤;以及经上述配适之后,决定对上述单位构造体之形状进行特定之参数的最佳值之步骤。
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地址 |
日本 |