衬底处理装置及半导体器件的制造方法

摘要

本发明提供一种衬底处理装置，防止设在排气系统中的涡轮分子泵的动作变得不稳定。该衬底处理装置向处理空间供给气体而对衬底进行处理，具有：在上述处理空间的上游侧使上述气体分散的缓冲空间；在将上述衬底向上述处理空间搬运时供上述衬底通过的搬运空间；与上述搬运空间连接的第1排气管；与上述缓冲空间连接的第2排气管；与上述处理空间连接的第3排气管；与上述第1排气管、上述第2排气管及上述第3排气管各自的下游侧连接的第4排气管；设于上述第1排气管的第1真空泵；设于上述第4排气管的第2真空泵；在上述第1排气管中设于上述第1真空泵的下游侧的第1阀；设于上述第2排气管的第2阀；以及设于上述第3排气管的第3阀。

主权项

一种衬底处理装置，其向处理空间供给气体而对衬底进行处理，该衬底处理装置具有：在所述处理空间的上游侧使所述气体分散的缓冲空间；在将所述衬底向所述处理空间搬运时供所述衬底通过的搬运空间；与所述搬运空间连接的第1排气管；与所述缓冲空间连接的第2排气管；与所述处理空间连接的第3排气管；与所述第1排气管、所述第2排气管及所述第3排气管各自的下游侧连接的第4排气管；设于所述第1排气管的第1真空泵；设于所述第4排气管的第2真空泵；在所述第1排气管中设于所述第1真空泵的下游侧的第1阀；设于所述第2排气管的第2阀；以及设于所述第3排气管的第3阀。