| 发明名称 | 使用研磨剂的粉末颗粒的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供具有亚微米级平均粒径的粉末颗粒的制备方法。具体来说，是使用多种研磨剂对被粉碎物进行粉碎，获得粉末颗粒的粉末颗粒的制备方法，其中，所述研磨剂含有相对于被粉碎物粉碎前的平均粒径具有0.01～5倍平均粒径的至少一种(研磨剂A)和具有10～450倍平均粒径的至少一种(研磨剂B)。 | ||
| 申请公布号 | CN101992141B | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201010298479.3 | 申请日期 | 2007.02.26 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 重田和树;池田笃 |
| 分类号 | B02C17/20(2006.01)I;C03C12/00(2006.01)I | 主分类号 | B02C17/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 吴娟;高旭轶 |
| 主权项 | 电子放射层的制备方法，该制备方法中使用含有粉末颗粒、粘合剂树脂和溶剂的组合物，所述粉末颗粒是通过使用多种研磨剂对玻璃进行粉碎来获得粉末颗粒的粉末颗粒的制备方法制得的，所述粉末颗粒的制备方法中，使用含有相对于玻璃粉碎前的平均粒径具有0.01～5倍平均粒径的至少一种研磨剂A和具有10～450倍平均粒径的至少一种研磨剂B的研磨剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||