发明名称 微影装置及器件制造方法
摘要
申请公布号 TWI490663 申请公布日期 2015.07.01
申请号 TW099118276 申请日期 2010.06.04
申请人 ASML荷兰公司 发明人 拉摩斯 尼可拉斯 亚诺德司;史卡巴罗兹 路奇
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种经建构及配置以清洁一表面之雷射清洁器件(device),该雷射清洁器件包含:一雷射源,其经建构及配置以产生辐射;一光学元件,其经建构及配置以将该辐射聚焦于一焦点中,以便在该表面上方之一背景气体中产生一清洁电浆;及一气体供应器,其经建构及配置以在该电浆附近之一部位处(location)产生一保护气体喷射流(jet of protection gas),其中该保护气体系分别地由该背景气体提供且喷射在另一方向,该另一方向不同于该辐射所产生之方向。
地址 荷兰
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