奈米级光学对位及压印调平装置

摘要

一种奈米级光学对位与压印调平设备，设有一框架组、一对位模组及一压印模组，该框架组设有一基座、一升降座及一上框架，该对位模组与该框架组相结合且设有一XXY对位平台、一压电调整平台、一干涉仪回授组、一三角雷射回授组及一标记影像辨识组，该压印模组与该框架组及该对位模组相结合且设有一上模组、一下模组及一标准校正模具，在进行压印时利用该压电调整平台与该三角雷射回授组进行调平，使上、下模具保持平行，让压印成品的厚度精密度高而提升成品的品质及良率，提供一对位精密度高且可即时监控的奈米级光学对位及压印调平装置者。