发明名称 PHOTO-ACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
摘要 i 선에 높은 광감도를 갖고, 내열 안정성이 우수하고, 소수성 재료에 대한 용해성이 우수한 비이온계 광산 발생제 및 이것을 함유하는 포토리소그래피용 수지 조성물을 제공한다. 본 발명은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 비이온계 광산 발생제 (A) 및 그 비이온계 광산 발생제 (A) 를 함유하는 포토리소그래피용 수지 조성물 (Q) 이다.[식 (1) 중, x 는 1 ∼ 8 의 정수, y 는 3 ∼ 17 의 정수, R 은 치환기 (T) 를 가져도 되는 페닐기, 비페닐기 또는 나프틸기, L 은 -O-, -S-, -SO-, -SO-, -CO-, -COO-, -CONH-, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬렌기, -CH=CH-, -C≡C- 또는 페닐렌기를 나타낸다.]
申请公布号 KR20150071702(A) 申请公布日期 2015.06.26
申请号 KR20157009342 申请日期 2012.10.18
申请人 SAN-APRO LIMITED 发明人 SHIBAGAKI TOMOYUKI;KIMURA HIDEKI
分类号 G03F7/004;C08K5/42;C08L101/00 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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