| 摘要 |
<p>光ベースの皮膚トリートメント装置１０、２０、３０を有する、皮膚トリートメントシステムが提供される。装置１０、２０、３０は、毛又は皮膚組織を処置するためのトリートメント用光ビーム２１を供給するためのトリートメント用光源１８、トリートメント用光ビーム２１が装置１０、２０、３０を出ることを可能とするための透明な出射窓１４、及びトリートメント用光ビーム２１が出射窓１４を通る位置を制御するための出射位置制御ユニット１７、を有する。該システムは更に、検出用光ビームを供給するための検出用光源を有する。該皮膚トリートメントシステムは更に、出射窓１４を少なくとも１回少なくとも部分的に通過した後の検出用光ビーム２１を検出するための検出ユニット１５と、検出ユニット１５からの検出信号を解析して、出射窓１４の外側面における損傷した領域を見出し、トリートメント用光ビーム２１が該損傷した領域を通過することを回避するように、出射位置制御ユニット１７を制御するように構成された制御回路１６と、を有する。</p> |
