| 摘要 |
<p>Verfahren zum Herstellen von elektrischen Bauteilen, das folgende Schritte umfasst: Ausbilden eines Photoresists (2) auf einem Teil der Oberfläche eines Substrats (1), Ausbilden einer Metallschicht (6) auf der Oberfläche des Substrats (1), nachdem das Photoresist (2) ausgebildet wurde, wobei die Metallschicht (6) aus einem Metall gebildet ist, das Nickel aufweist, Entfernen eines Teils der Metallschicht (6) durch Polieren, Entfernen eines Metalloxidfilms (10), der sich beim Polieren auf der Oberfläche der Metallschicht (6) gebildet hat, Entfernen des Photoresists (2) durch eine Veraschung unter Verwendung eines Gases, das eine Fluorverbindung enthält, und Galvanisieren mit Palladium, mit einer Legierung einschließlich Palladium und Kobalt oder mit Rhodium auf der Oberfläche der Metallschicht (6) nach dem Entfernen des Photoresists (2).</p> |
