发明名称 |
波前修正设备、光刻设备以及方法 |
摘要 |
一种具有多个声波发射器的波前修正设备,声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波。声波发射器可以配置成建立至少部分地延伸跨过辐射束管道的驻声波。可以在光刻设备中设置波前修正设备,可以使用波前修正设备修正被光刻设备使用以将图案投影到衬底上的辐射束的波前。 |
申请公布号 |
CN102841511B |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
CN201210207908.0 |
申请日期 |
2012.06.19 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
罗坦·艾哈迈多维奇·斯匹克汉诺夫 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种波前修正设备,包括多个声波发射器,所述多个声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波,其中,所述多个声波发射器配置以建立驻声波,所述驻声波至少部分地延伸跨过辐射束管道,所述多个声波发射器成对地设置,每一对的声波发射器彼此面对,其中所述驻声波的相位用于引起对所述辐射束的修正。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |