| 发明名称 | 层积体、阻气膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种层积体(1)，其具有：基材(2)，在所述基材(2)的外面的至少一部分上形成、含有具有官能团的有机高分子、且以膜或薄膜形状形成的底涂层(3)，以及含有成为原料的前体(6)、以覆盖所述底涂层(3)的表面的方式形成、且所述前体(6)的至少一部分键合于所述官能团的原子层沉积膜(4)，其中，具有所述基材(2)和所述底涂层(3)的层状薄膜的线膨胀系数为1.0×10<sup>-5</sup>/K以上8.0×10<sup>-5</sup>/K以下。 | ||
| 申请公布号 | CN104736334A | 申请公布日期 | 2015.06.24 |
| 申请号 | CN201380053425.2 | 申请日期 | 2013.10.18 |
| 申请人 | 凸版印刷株式会社 | 发明人 | 佐藤尽;加纳满 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;C23C16/02(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 丁业平;张苏娜 |
| 主权项 | 一种层积体，其包括：基材，底涂层，其在所述基材的外面的至少一部分上形成，含有具有官能团的有机高分子，且形成为膜或薄膜形状，以及原子层沉积膜，其含有成为原料的前体，并且以覆盖所述底涂层的表面的方式形成，所述前体的至少一部分键合于所述官能团，其中，包括所述基材和所述底涂层的层状薄膜的线膨胀系数为1.0×10<sup>‑5</sup>/K以上8.0×10<sup>‑5</sup>/K以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||