发明名称 |
底部抗反射涂层的涂覆方法 |
摘要 |
本发明提供一种底部抗反射涂层的涂覆方法,至少包括以下步骤:S1:提供一表面形成有氮化物层的基板,将所述基板放置于一旋转的载物台上;S2:在所述氮化物层表面涂布或喷淋碳酸水溶液;所述碳酸水溶液与所述氮化物层表面释放的物质反应并被所述载物台甩掉;S3:在所述氮化物层上表面形成一底部抗反射涂层。本发明通过首先在氮化物层表面涂布碳酸水溶液,碳酸水溶液中的碳酸与氮化层释放出来的基本成分反应,从而保护后续形成底部抗反射涂层不被这些释放的物质污染,即使经过长时间的排队,产生的缺陷数目也大大减少,有利于提高产品的良率。 |
申请公布号 |
CN104733290A |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
CN201310705829.7 |
申请日期 |
2013.12.19 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
王辉 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
李仪萍 |
主权项 |
一种底部抗反射涂层的涂覆方法,其特征在于,至少包括以下步骤:S1:提供一表面形成有氮化物层的基板,将所述基板放置于一旋转的载物台上;S2:在所述氮化物层表面涂布或喷淋碳酸水溶液;所述碳酸水溶液与所述氮化物层表面释放的物质反应并被所述载物台甩掉;S3:接着在所述氮化物层上表面形成一底部抗反射涂层。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |