发明名称 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、化合物
摘要 Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of acids of general formula (I) below.
申请公布号 JP5740322(B2) 申请公布日期 2015.06.24
申请号 JP20120023486 申请日期 2012.02.06
申请人 富士フイルム株式会社 发明人 川端 健志;椿 英明;滝沢 裕雄
分类号 G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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