发明名称 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、化合物 |
摘要 |
Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of acids of general formula (I) below. |
申请公布号 |
JP5740322(B2) |
申请公布日期 |
2015.06.24 |
申请号 |
JP20120023486 |
申请日期 |
2012.02.06 |
申请人 |
富士フイルム株式会社 |
发明人 |
川端 健志;椿 英明;滝沢 裕雄 |
分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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