| 摘要 |
<p>마스크 블랭크를 이용하여 고정밀도의 미세 패턴이 형성된 임프린트용 몰드의 제조 방법을 제공한다. 투광성 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 박막을 갖는 마스크 블랭크에 있어서, 박막은, Cr과 질소를 함유하는 재료로 형성되어 있는 상층과, Ta를 주성분으로 하는 화합물을 함유하고, 또한, 염소계 가스를 이용한 드라이 에칭 처리에 의해 에칭 가공이 가능한 재료로 형성되어 있는 하층으로 이루어진다. 박막의 상층 및 하층을, 산소를 실질적으로 함유하지 않는 염소계 가스를 이용한 드라이 에칭 처리에 의해 에칭 가공하고, 이어서 기판을, 불소계 가스를 이용한 드라이 에칭 처리에 의해 에칭 가공함으로써 임프린트용 몰드를 얻는다.</p> |
