高均匀化学气相沉积镀膜连续镀制装置

主权项

一种高均匀化学气相沉积镀膜连续镀制装置，包含：一输送单元，用以输送一待镀物沿一预定路径移动；一沉积单元，包括一位于该预定路径上以在该待镀物上沉积一镀附物的沉积舱、一连通该沉积舱的原料裂解舱、一连通该原料裂解舱的原料加热舱、一用以侦测该沉积舱之压力的压力侦测器，及一受该压力侦测器控制以调整该原料加热舱之温度的温度控制器；一冷凝单元，包括一连通该沉积舱的入口冷凝机构，及一连通该沉积舱的出口冷凝机构，该入口冷凝机构与该出口冷凝机构分别位于该沉积舱的两相反侧，且能受控制地将温度控制在一可防止该镀附物逸散的冷凝温度；及该输送单元是带动该待镀物依序经该入口冷凝机构、该沉积舱与该出口冷凝机构以在该待镀物上沉积该镀附物。