| 主权项 |
一种基板处理装置，其中执行关于基板的处理，该基板处理装置包含：具有一开放式上半部的一下方处理室，该下方处理室包含一通道，容许该等基板从其一侧边通过；一外部反应管，其封闭该下方处理室的该开放式上半部，以提供其中执行该等处理的一处理空间；一基板固定器，其上垂直堆叠一或多个基板，该基板固定器可在其中该等基板已经堆叠的一堆叠位置与其中执行关于该等基板的该等处理之一处理位置之间移动；以及一气体供应单元，其位于该外部反应管内，以便供应一反应气体进入该处理空间，该气体供应单元往一垂直方向形成具有不同相位差的该反应气体流，其中该气体供应单元包含：复数个供应喷嘴，分别具有一供应孔，该反应气体经由该供应孔喷出，该等复数个供应孔沿着该外反应管的内壁以圆周方向配置以使该等复数个供应孔具有相位差，且该等复数个供应孔彼此设置于不同高度；及复数个排放喷嘴，分别具有一排放孔，其吸入该处理空间内的未反应气体与副产物，该等复数个排放孔沿着该外反应管的内壁以圆周方向配置以使该等复数个排放孔具有相位差，且该等复数个排放孔彼此设置于不同高度，其中位于相同高度的供应孔的中心与排放孔的中心相对称，以至于该反应气体于该垂直方向上具有相位差。
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