发明名称 半导体堆叠结构及其制法
摘要
申请公布号 TWI489600 申请公布日期 2015.06.21
申请号 TW101149480 申请日期 2012.12.24
申请人 精材科技股份有限公司 发明人 何彦仕;关欣;尤龙生;刘沧宇;郑家明
分类号 H01L23/48;H01L23/12 主分类号 H01L23/48
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种半导体堆叠结构之制法,系包括:提供一具有相对之第一表面与第二表面之晶圆,该晶圆之第一表面具有复数电性接触垫;将该晶圆藉其第一表面设置于一第一承载件上;形成复数盲孔于该晶圆之第二表面上,以令该些电性接触垫对应外露出各该盲孔;由该晶圆之第二表面切割该晶圆,以形成复数晶片;将各该晶片由该第一承载件移至一设有复数定位部之第二承载件上,且该晶片之第二表面设置于该第二承载件上,以外露该晶片之第一表面,并令该些定位部对应位于各该晶片之间,使各该晶片之间具有间距;提供表面具有复数坝块之基板,以将各该晶片第一表面上之电性接触垫对应各该坝块,使各该晶片其第一表面结合于该基板上;移除该第二承载件及该些定位部;形成隔离层于各该晶片之第二表面、盲孔之孔壁与各该晶片之侧面上,且该电性接触垫外露出该盲孔;形成线路重布层于各该晶片之第二表面上之部分隔离层上,且形成导电盲孔于该盲孔中,以藉该导电盲孔电性连接该线路重布层与该电性接触垫;形成保护层于各该晶片之第二表面上之隔离层与 该线路重布层上;以及沿各该晶片之间的间距切割该基板,以形成复数该半导体堆叠结构。
地址 桃园市中坜区中坜工业区吉林路23号9楼