发明名称 Siliziumcarbidhalbleitersubstrat und Verfahren zur Herstellung hiervon
摘要 <p>Ein Siliziumcarbidhalbleitersubstrat ist aus einem Siliziumcarbideinkristall gefertigt und mit einer Markierung (2) an wenigstens einer Oberfläche ausgebildet, welche als ein Kristalldefekt ausgeformt ist und eine Identifizierungsanzeige ist. Wenn ein Siliziumcarbideinkristall (3) unter Verwendung des Siliziumcarbidhalbleitersubstrats als Impfkristall gezüchtet wird, kann die Markierung (2) in dem Siliziumcarbideinkristall (3) als ein Kristalldefekt weitergeführt werden. Wenn Siliziumcarbidhalbleitersubstrate (4) unter Verwendung des Siliziumcarbideinkristalls (3) hergestellt werden, ist die Markierung (2) bereits auf jedem der Siliziumcarbidhalbleitersubstrate (4) ausgebildet.</p>
申请公布号 DE112013004844(T5) 申请公布日期 2015.06.18
申请号 DE20131104844T 申请日期 2013.09.12
申请人 DENSO CORPORATION 发明人 YAMAUCHI, SHOUICHI;HIRANO, NAOHIKO
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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