发明名称 相位偏移校准方法、3D形状检测的方法、系统及投影系统
摘要 本发明提出了一种3D形状检测的方法、检测3D形状的投影系统和相位偏移校准方法。本发明的3D形状检测的方法包括:将至少两个不同方向的具有图案的结构光投射到目标上并获取结构光图案,并计算相位包裹值;对结构光图案进行分析,针对结构光图案的灰度值得到具有无效相位包裹值的像素位置;进行校准处理,以补偿相位偏移;将所需像素处沿第一方向的有效相位包裹值和经补偿的无效相位包裹值合并成一组合并的相位包裹值,以计算目标处的所需像素处的深度值。本发明的方法和系统能快速地计算以精确地获得目标的3D形状数据。
申请公布号 CN104713497A 申请公布日期 2015.06.17
申请号 CN201510115382.7 申请日期 2015.03.17
申请人 香港应用科技研究院有限公司 发明人 王曌;王冠;吴昌力
分类号 G01B11/25(2006.01)I 主分类号 G01B11/25(2006.01)I
代理机构 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人 张春媛;阎娬斌
主权项 一种对目标的3D形状进行检测的方法,其特征在于,包括以下步骤,步骤S1,将至少两个不同方向的具有图案的结构光投射到目标上,沿所述至少两个不同方向获取被目标反射后形成的结构光图案,并计算沿所述至少两个不同方向的结构光图案在目标上的所需像素处的相位包裹值;步骤S2,对沿所述至少两个不同方向获取的结构光图案进行分析,针对结构光图案的灰度值得到至少两个不同方向的第一方向的具有无效相位包裹值的像素位置;步骤S3,利用具有无效相位包裹值的像素沿作为补偿方向的第二方向的有效相位包裹值对该第一方向的无效相位包裹值进行校准处理,以补偿相位偏移,从而将该无效相位包裹值补偿为经补偿的无效相位包裹值;步骤S4,将所需像素处沿所述第一方向的有效相位包裹值和经补偿的无效相位包裹值合并成一组合并的相位包裹值,以计算目标上的所需像素处的深度值。
地址 中国香港新界沙田