发明名称 EXPOSURE DEVICE AND DEVICE PRODUCING METHOD
摘要 <p>수압 패드 (32) 와 수압 패드 (34) 에 의해, 웨이퍼 (W) 및 그 웨이퍼가 재치된 테이블 (TB) 이 협지되어 있다. 수압 패드 (32) 에 의해, 그 베어링면과 웨이퍼 (W) 의 투영광학계 (PL) 의 광축 방향에 관한 간격이 소정 치수로 유지된다. 또, 수압 패드는 기체 정압 베어링과는 달리 베어링면과 지지대상물 (기판) 사이의 비압축성 유체 (액체) 의 정압을 이용하기 때문에, 베어링의 강성이 높고 베어링면과 기판의 간격이 안정되어 더욱 일정하게 유지된다. 또 액체 (예를 들어 순수) 는 기체 (예를 들어 공기) 에 비하여 점성이 높고, 액체는 진동감쇠성이 기체에 비하여 양호하다. 따라서, 초점위치 검출계 등을 반드시 형성하지 않고도 디포커스가 거의 없는 웨이퍼 (기판) 상에 대한 패턴의 전사가 실현된다.</p>
申请公布号 KR101529844(B1) 申请公布日期 2015.06.17
申请号 KR20147016500 申请日期 2004.06.18
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/677 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址