发明名称 |
一种钛基体表面制备有序微纳结构的方法 |
摘要 |
本发明属于钛及钛合金加工领域,公开了一种在钛及钛合金基体上由表及里地进行两步刻蚀从而构建有序微纳结构的方法,具体的步骤包括抛光、酸刻蚀和电化学刻蚀。该方法制备得到的表面有序微纳结构可重复性好、稳定性高、尺寸可控,并且具有优异的生物活性和力学性能。此外,由于该结构由体材部分转化而成,与底材之间没有截然的分界面,也不存在烧结颈,因此与钛基体结合强度高。 |
申请公布号 |
CN104695005A |
申请公布日期 |
2015.06.10 |
申请号 |
CN201510113262.3 |
申请日期 |
2015.03.13 |
申请人 |
河北工业大学 |
发明人 |
李宝娥;郝静祖;闵阳;李海鹏;梁春永;王洪水 |
分类号 |
C25F3/08(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;A61L27/06(2006.01)I;A61L27/50(2006.01)I |
主分类号 |
C25F3/08(2006.01)I |
代理机构 |
天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 |
代理人 |
侯力 |
主权项 |
一种钛基体表面制备有序微纳结构的方法,其特征是,包括抛光、浓硫酸刻蚀和电化学刻蚀三个步骤,其中所述的抛光依次为常规物理抛光和化学抛光,化学抛光液采用3wt%的HF和0.02wt‰酸雾抑制剂的水溶液,抛光时间为2min,所需抛光面积(mm<sup>2</sup>)与所用抛光液体积(ml)的比例为2~20:1;所述的浓硫酸刻蚀采用的浓硫酸浓度为60wt%~75wt%,刻蚀温度80℃,刻蚀时间4~5min,所需刻蚀面积(mm<sup>2</sup>)与所用酸液体积(ml)的比例为2~10:1;所述的电化学刻蚀采用恒压直流电源,将浓硫酸酸刻蚀后的钛基体置于恒压直流电源的阳极上,采用惰性阴极对钛基体进行电化学刻蚀,选用溶有氟化盐的有机溶剂作为电解质,最高刻蚀温度低于70℃;所述物理抛光、化学抛光、浓硫酸刻蚀和电化学刻蚀完成后都对钛基体进行超声清洗并烘干。 |
地址 |
300401 天津市北辰区双口镇西平道5340号河北工业大学 |