| 发明名称 | 具有矩形轮廓的间隔件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种方法，包括在图案化部件的顶面和侧壁上形成间隔件层，其中，图案化部件在基础层的上面。形成保护层以接触间隔件层的顶面和侧壁表面。保护层的水平部分被移除，其中，在移除之后保留保护层的垂直部分。间隔件层被蚀刻以移除间隔件层的水平部分，其中，间隔件层的垂直部分保留来形成间隔件的部分。本发明还提供具有矩形轮廓的间隔件及其制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN104701152A | 申请公布日期 | 2015.06.10 |
| 申请号 | CN201410738338.7 | 申请日期 | 2014.12.05 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 张钰声;李忠儒;包天一 |
| 分类号 | H01L21/28(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;李伟 |
| 主权项 | 一种方法，包括：在图案化部件的顶面和侧壁上形成间隔件层，其中，所述图案化部件在基础层的上面；形成接触所述间隔件层的顶面和侧壁表面的保护层；移除所述保护层的水平部分，其中，在所述移除之后保留所述保护层的垂直部分；以及蚀刻所述间隔件层以移除所述间隔件层的水平部分，其中，所述间隔件层的垂直部分保留来形成间隔件的部分。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||