一种大面积制备微纳米凸球透镜阵列的方法

摘要

一种用电子束光刻(EBL)结合反应离子刻蚀(RIE)大面积制备微纳米凸球透镜阵列的方法，包括如下步骤：1)清洁金刚石表面并蒸镀粘附层金属；2)在蒸镀了粘附层金属的金刚石样品表面旋涂HSQ层，并进行前烘；3)在EBL系统中对金刚石样品表面HSQ层进行曝光；4)对曝光后的HSQ层进行显影定影；5)用RIE刻蚀去除周期性柱形硅氧化物掩膜周围的粘附层金属；6)用RIE刻蚀周期性凸球阵列结构。本发明的方法简单灵活，能够实现金刚石表面大面积的凸球结构制备，在金刚石NV色心单光子器件等方面有潜在应用。

主权项

一种用电子束光刻(EBL)结合反应离子刻蚀(RIE)大面积制备微纳米凸球透镜阵列的方法，包括步骤如下：步骤S1：清洁金刚石表面并蒸镀粘附层金属；步骤S2：在蒸镀了粘附层金属的金刚石样品表面旋涂HSQ层，并进行前烘；步骤S3：在EBL系统中对金刚石样品表面HSQ层进行曝光，曝光图形为周期性圆形阵列；步骤S4：对曝光后的HSQ层进行显影定影，得到周期性柱形硅氧化物掩膜；步骤S5：用RIE刻蚀去除周期性柱形硅氧化物掩膜周围的粘附层金属；步骤S6：用RIE刻蚀周期性凸球阵列结构。